Description du livre
Ce livre fournit une description et une analyse systématiques de la lithographie au laser en mode thermique, abordant les principes de base, le système de lithographie, la manipulation de la taille des éléments, la lithographie en niveaux de gris, les films minces résistants et le transfert de motifs, tout en présentant les résultats et applications expérimentales types. Il introduit la lithographie laser en mode thermique, où les couches minces de résist sont essentiellement une réponse opto-thermique au faisceau laser avec une longueur d'onde variable et ne sont pas sensibles à la longueur d'onde du laser. Les techniques de lithographie au laser en mode thermique simplifient grandement les procédures de production parce qu'elles ne nécessitent ni une source de lumière particulière ni un environnement particulier ; de plus, il n'y a aucune étape de précuisson et de post-cuisson requise pour les photoréserves organiques. La taille de la caractéristique du motif peut être plus grande ou plus petite que le point laser en ajustant la stratégie d'écriture. La taille de l'élément lithographique peut également être réglée arbitrairement de l'échelle nanométrique au micromètre sans changer la taille du point laser. Enfin, la rugosité des bords de la ligne peut être contrôlée à une valeur très faible car le processus de gravure est un processus de rupture des liaisons entre atomes. Le livre offre un guide de référence inestimable pour tous les étudiants de premier cycle, les étudiants diplômés, les chercheurs et les ingénieurs travaillant dans les domaines de la nanofabrication, des techniques et systèmes de lithographie, des matériaux à changement de phase, etc.